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業績詳細


【論文】

Electron Beam Lithography of 15× 15 nm2 Pitched Nanodot Arrays with a Size of Less than 10nm Using High Development Contrast Salty Developer
【全著者名】
Takuya Komori, Hui Zhang, Takashi Akahane, Zulfakri Bin Mohamad, You Yin and Sumio Hosaka
【掲載雑誌名】
Japanese Journal of Applied Physics
【巻・号・頁】
51: 06FB02 1-4
【発表年月】
2012年06月
【単著、共著の別】
共著
【掲載雑誌種別】
学術雑誌
【DOI】
https://doi.org/10.1143/JJAP.51.06FB02

【研究者】

張 慧