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業績詳細


【論文】

Effect of salty development on forming HSQ resist nanodot arrays with a pitch of 15×15 nm2 by 30-keV electron beam lithography
【全著者名】
T. Komori, H. Zhang, T. Akahane, Z. Mohamad, Y. Yin, and S. Hosaka
【掲載雑誌名】
Key Engineering Materials
【巻・号・頁】
534: 113-117
【発表年月】
2013年01月
【単著、共著の別】
共著
【掲載雑誌種別】
学術雑誌
【DOI】
10.4028/www.scientific.net/KEM.534.113

【研究者】

張 慧