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業績詳細


【論文】

Dependence of Electron Beam Diameter, Electron Energy, Resist Thickness and Resist Type for Forming Nano-sized Dot Arrays in EB Lithography by Using Monte Carlo Simulation
【全著者名】
Hui Zhang, YuLong Zhang, Sumio Hosaka and You Yin
【掲載雑誌名】
American Journal of Nanoscience and Nanotechnology
【巻・号・頁】
1(1): 11-16
【発表年月】
2013年05月
【単著、共著の別】
共著
【掲載雑誌種別】
学術雑誌
【DOI】
10.11648/j.nano.20130101.13

【研究者】

張 慧
【筆頭著者】
筆頭著者