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業績詳細


【論文】

Simulation of Fine Resist Profile Formation by Electron Beam Drawing and Development with Solubility Rate Based on Energy Deposition Distribution
【全著者名】
Zhang, Hui; Komori, Takuya; Zhang, Yulong; Yin, You; Hosaka, Sumio
【掲載雑誌名】
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
【巻・号・頁】
52(12): 126504
【発表年月】
2013年12月
【単著、共著の別】
共著
【掲載雑誌種別】
学術雑誌
【DOI】
10.7567/JJAP.52.126504

【研究者】

張 慧
【筆頭著者】
筆頭著者