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業績詳細


【論文】

Estimation of HSQ Resist Profile by Using High Contrast Development Model for High Resolution EB Lithography
【全著者名】
Hui Zhang, Takuya Komori, Jing Liu, Yulong Zhang, Zulfakri Mohamad, You Yin, and Sumio Hosaka
【掲載雑誌名】
Key Engineering Materials
【巻・号・頁】
596: 97-100
【発表年月】
2013年12月
【単著、共著の別】
共著
【掲載雑誌種別】
学術雑誌
【DOI】
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.596.97

【研究者】

張 慧
【筆頭著者】
筆頭著者