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業績詳細


【論文】

Estimation of pattern resolution using NaCl high-contrast developer by Monte Carlo simulation of electron beam lithography
【全著者名】
Hui Zhang, Miftakhul Huda, Takuya Komori, Yulong Zhang, You Yin and Sumio Hosaka
【掲載雑誌名】
Microelectronic Engineering
【巻・号・頁】
121(1): 142-146
【発表年月】
2014年06月
【単著、共著の別】
共著
【掲載雑誌種別】
学術雑誌
【DOI】
https://doi.org/10.1016/j.mee.2014.04.039

【研究者】

張 慧
【筆頭著者】
筆頭著者